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[单选题]

离子束刻蚀是利用具有一定能量的（)轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。

A.电子

B.离子

C.原子

D.分子

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发布时间：2022-10-19

更多“离子束刻蚀是利用具有一定能量的（)轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。”相关的问题

第1题

离子源，又称( )。其功能是将样品导入系统引入的( )转化成离子，同时又具有准直和聚集作用，使离子会聚成具有一定几何形状和能量的离子束进入质量分析器。

离子源，又称（)。其功能是将样品导入系统引入的（)转化成离子，同时又具有准直和聚集作用，使离子会聚成具有一定几何形状和能量的离子束进入质量分析器。

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第2题

干法刻蚀主要包括下面几类（)。

A.离子束刻蚀IBE

B.等离子体刻蚀PE

C.反应离子刻蚀RIE

D.高密度等离子体刻蚀HDP

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第3题

以下哪一种不属于量子点的外延生长方法________？

A.离子束刻蚀法

B.MOCVD

C.化学气相沉积法

D.MBE

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第4题

极端制造：指在极端条件下，制造极端尺度或极高功能的器件和功能系统，集中表现在微细制造、超精密制造、巨系统制造等方面。下列不属于极端制造的是()。

A.无缝钢管、电子秤、折叠自行车等的制造

B.飞机制造与热连轧机组制造等复杂系统制造

C.以激光、电子束、离子束刻蚀等强能束制造为代表的激光加工

D.生物矿石破碎、微生物冶金技术等生物制造

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第5题

光刻技术的原理和印刷的照相制版相似，即在硅基材料上涂覆光刻胶，接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模，对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后，在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形，再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。（)

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第6题

X射线管中，电子轰击靶时能量转换的主要形式是（)。

A.一次X射线

B.二次X射线

C.软射线

D.热能

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第7题

刻蚀的方法有两类：湿法刻蚀和干法刻蚀，其中，（)是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而（)是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术，刻蚀反应中不涉及液体。

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第8题

如用能量为12.6eV的电子轰击氢原子，将产生（)条光谱线。‏

A.3

B.2

C.1

D.4

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第9题

反应离子刻蚀RIE刻蚀时选择最优的刻蚀掺数的组合可以在保证表面光滑和一定的速率和方向性。（)

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第10题

有关X射线产生，下列说法正确的是（)。

A.在X射线管内产生

B.用高速运动的电子轰击金属靶而产生的

C.是由原子的内层电子跃迁释放能量而发射出的一种电磁波

D.高速运动电子的能量中，只有大约1%的能量转换为X射线

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