题目内容
(请给出正确答案)
[判断题]
光刻技术的原理和印刷的照相制版相似,即在硅基材料上涂覆光刻胶,接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模,对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后,在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形,再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。()
答案
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第2题
A.选稿—印前信息处理—制版—印刷—印后加工
B.原稿—制版—修版—印刷—装订
C.原稿选择—照相制版—印刷—装订
D.制版—印前信息处理—印刷—印后加工
第3题
B、对于去重复后的序列根据重复序列次数从大到小排序
C、使用vsearch去除singleton序列,即在所有样本中只出现一次的序列
D、以97%(或客户自定义的其他值)的相似性对序列进行聚类,相似度大于97%的序列将聚为同一个OTU,同时使用denovo模式去除嵌合体序列,最终产生的OTU代表序列将用于后续物种注释
E、以上均正确
第4题
A.计算机仿真
B.并行工程
C.以上选项都对
D.以上选项都不对