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[判断题]

真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,气化粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。()

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更多“真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,气化粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。()”相关的问题

第1题

常见的物理气相沉积技术有哪几项()。

A.真空蒸镀

B.溅射镀膜

C.离子镀膜

D.分子束外延技术

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第2题

在有机电致发光器件中,以下哪种性质不是有机发光层的材料必须具备的________?

A.固态下有较强荧光

B.载流子传输性能好,量子效率高

C.热稳定性和化学稳定性佳

D.柔软可折叠

E.柔软可折叠

F.能够真空蒸镀

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第3题

()是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。

A.蒸镀

B.离子注入

C.溅射

D.沉积

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第4题

()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。

A.蒸镀

B.溅射

C.离子注入

D.CVD

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第5题

离子镀技术结合了蒸镀和溅射镀膜两种技术的优点,具有沉积速度快和膜层结合力高的特点,还具有绕射性好、离子轰击清洗作用,可镀材料广泛的优点。()
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第6题

蒸镀的物理过程包括:沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大、最终形成连续薄膜三个阶段。()
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第7题

已知水在100℃,101.325kPa下的摩尔蒸发焓试分别计算下列两过程的Q,W,ΔU和△H.(水蒸气可按理想气
已知水在100℃,101.325kPa下的摩尔蒸发焓试分别计算下列两过程的Q,W,ΔU和△H.(水蒸气可按理想气

已知水在100℃,101.325kPa下的摩尔蒸发焓试分别计算下列两过程的Q,W,ΔU和△H.(水蒸气可按理想气体处理.)

(1)在100℃,101.325kPa条件下,1kg水蒸发为水蒸气;

(2)在恒定100℃的真空容器中,1kg水全部蒸发为水蒸气,并且水蒸气压力恰好为101.325kPa.

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第8题

蒸发一段出料浓度低的原因有()。

A.蒸发蒸气量不够

B.三塔再沸器换热效果差

C.系统真空差

D.进料浓度低

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第9题

EG£¯TEG回收真空失去的现象是()。

A.系统无法达到设定真空度

B.系统压力波动大

C.馏分蒸出速度加快

D.气相热媒压力波动

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第10题

根据蒸煮醪冷却和糖化醪冷却的方法不同,可将连续糖化工艺分成混合冷却连续糖化、()、二级真空冷却连续糖化三类。
根据蒸煮醪冷却和糖化醪冷却的方法不同,可将连续糖化工艺分成混合冷却连续糖化、()、二级真空冷却连续糖化三类。

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