题目内容
（请给出正确答案）
[多选题]
CVD反应体系必须具备的条件有（)。
A.在沉积温度下，反应物具有足够高的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室
B.反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的
C.沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压，以保证在反应中能保持在受热的基体上，不会挥发
D.作为涂层的分解或还原产物在作业温度下必须是易挥发的固相物质
答案
查看答案
重要提示：请勿将账号共享给其他人使用，违者账号将被封禁！
查看《购买须知》>>>
请输入或粘贴题目内容
搜题
拍照、语音搜题，请扫码下载APP
题目内容
（请给出正确答案）
A.在沉积温度下，反应物具有足够高的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室
B.反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的
C.沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压，以保证在反应中能保持在受热的基体上，不会挥发
D.作为涂层的分解或还原产物在作业温度下必须是易挥发的固相物质
答案
更多“CVD反应体系必须具备的条件有()。”相关的问题
第3题
A.Ⅰ、Ⅱ、Ⅳ;
B.Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ;
C.Ⅰ、Ⅱ;
D.Ⅱ、Ⅲ
第4题
A.注册资本最低限额为人民币五千万元
B.主要管理人员和业务人员必须具有证券从业资格
C.有固定的经营场所和合格的交易设施
D.有规范的自营业务与经纪业务分业管理的体系
第5题
A.生成的配合物要有稳定的组成．要有足够的稳定性
B.配位反应的速度要足够快
C.有适当的指示剂或其它方法测定化学计量点的到达
D.以上都是
