题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
邻二甲苯装置的原料来源是()。
A.二甲苯塔底的C+8A
B.二甲苯塔底的OX+C+9A
C.吸附分离装置贫PX的抽余液
D.二甲苯塔顶的C8A
答案
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A.二甲苯塔底的C+8A
B.二甲苯塔底的OX+C+9A
C.吸附分离装置贫PX的抽余液
D.二甲苯塔顶的C8A
第6题
A.提高二甲苯塔回流比
B.提高二甲苯塔的灵敏板温度
C.降低邻二甲苯塔温差
D.优化为二甲苯塔提供原料的反应器操作条件
第9题
A.二甲苯塔的进料组成开始变轻
B.提高二甲苯塔精馏段的分离效果
C.提高二甲苯塔提馏段的分离效果
D.最大限度地联产邻二甲苯
第10题
A.从C+8A分离出部分OX和C+9A
B.把二甲苯塔底OX/C8A符合要求的C+8A分离出OX和C+9A
C.从混合的C8A中分离出部分OX
D.把二甲苯塔底OX/C8A符合要求的C+8A分离出部分OX和C+9A